掃描電子顯微鏡

簡要描述：Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡
設(shè)備概述
型號: SEMVision CX 200
制造商: Applied Materials
應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體制造環(huán)境
主要特性
光學(xué)系統(tǒng): 0.2 NA 光學(xué)系統(tǒng)
高分辨率彩色相機
電動龍門
CO2激光準直光學(xué)設(shè)計
低噪聲冷卻CCD相機
可調(diào)LED光源
多測量模式

產(chǎn)品型號：CX 200
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新日期：2024-09-23
訪問量：609

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CLASSIFICATION

光學(xué)儀器及設(shè)備

光學(xué)顯微鏡光學(xué)計量儀晶圓檢測儀顆粒檢測儀橢圓偏光儀薄膜厚度測試儀電子顯微鏡

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詳細介紹

Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡

設(shè)備概述

型號: SEMVision CX 200

制造商: Applied Materials

應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體制造環(huán)境

主要特性

光學(xué)系統(tǒng): 0.2 NA 光學(xué)系統(tǒng)

高分辨率彩色相機

電動龍門

CO2激光準直光學(xué)設(shè)計

低噪聲冷卻CCD相機

可調(diào)LED光源

多測量模式

技術(shù)優(yōu)勢

改進的性能和產(chǎn)量監(jiān)控

支持優(yōu)良集成電路設(shè)計的制造

檢測微觀尺度的缺陷和非均勻區(qū)域

配置選項

自動化掩模書寫功能

自動化檢查技術(shù)

檢測能力

單晶圓檢測速度: ≤90 s (在流水線模式下)

單晶圓缺陷吞吐量: ≤500 DPH (可選600 DPH)

單晶圓吞吐量: ≥8 晶圓/小時 (50個缺陷/晶圓)

清潔等級與API參數(shù)

清潔等級: Class 1 可接受外界條件影響的結(jié)霜對機組性能的影響

API參數(shù): +/-1.5um API (Automatic Process Control)

Applied Materials CX 200掃描電子顯微鏡是一款高性能、高精度的掩模和晶圓檢測設(shè)備，憑借其優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)、強大的圖像處理能力和高效的自動化功能，能夠滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)中對缺陷檢測的嚴格要求。

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掃描電子顯微鏡

Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡

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